第416章【向高通学习，躺着赚专利费】（1/ 2）

“当前的行业现状是，193纳米液浸式光刻机系统是最为成熟的技术，在精确度以及成本上做到了一个近乎完美的平衡，短时间内很难被取代，但终究也是要被取代的，就是极紫外光刻机技术。”

安静的会议大厅里，罗晟有条不紊的说道：“这样做的风险是很高，但是不可否认的是半导体业的发展也的的确确到了一个新的转折点，摩尔定律正在面临巨大的挑战，没有人能够确定去年总产值3000亿美元的半导体产业将如何引导未来5年或10年内的发展。”

“也无人能够知晓‘后摩尔定律’时代的半导体行业未来会是什么样子。”说到这里罗晟心中补充了一句“除了我”，停顿了片刻继续说道：

“利润的下降也可能是无法避免的，但是如果摩尔定律能够有效的避免半导体业营业额的下降，即便只有15%，其现金流也仍然是整个美国游戏产业营业额的两倍。”

朱昱下意识的点点头，在罗晟停顿的时候发言道：“光刻、蚀刻系统制造的精细程度取决于很多因素，但是能实现跨越性进步的有效方法是降低使用光源的波长。几十年来，光刻机厂商就是这么做的，把晶圆曝光工具从人眼可见的蓝光端开始逐渐减少波长，一直到光谱上的紫外端……”

罗晟继续说道：“摩尔定律的终点已经被大家预见到了，半导体行业也一直都在寻找方法来保持技术革新和进步，全球的领先芯片制造厂商们也在努力改进技术，即：将晶片从光刻机中加工取出后再放入其中，并在原来的位置精准的印刷出下一层图像，EUV是较为不同的一个。”

“我坚信这个技术可以实现，是未来的趋势，并且该技术会成为芯片制造商们最划算的选择。所以我的想法是接下来不惜成本合力做出一个EUV光刻机样机，争取在2015年左右实现这个目标，使其他研究者们可以测试这种方法。”

不一会儿，胜利精密的掌门人高总提出了不同的看法，他说道：“但是罗总，据我所知EUV技术是非常困难的。在使用波长近乎为X光的射线去蚀刻的时候，物理学知识并不能为工程师们帮上多少忙。”

与会的其它人也不由得点点头，极紫外光刻技术在上个世纪90年代后期就已经被提出来了，如今过去了十多年，行业大拿ASML公司也毫无进展，其难度可想而知。

末了，众人不由得看向了罗晟，诧异的发现善于创造奇迹的年轻世界首富却是一脸轻松，这不禁让大家好奇了。

罗晟调出了一组数学模型，不用他示意众人已经纷纷看向了大屏幕，而罗晟有条不紊的说道：

“高总说的不无道理，所以我最终选择了13.5纳米波长射线，这种光可以轻易地被很多材料吸收，即使我们呼吸的空气也是完全的黑色，因为它也吸收了最后一点射线，我很早就意识到了EUV光刻机只能在真空下运行，晶圆则通过一个气闸进出光刻机。”

罗晟补充道：“之后接踵而来的就是让射线弯曲的问题了，EUV也能被玻璃吸收，所以在设备中改变其走向，需要使用反射镜来代替透镜，而且还不能是普通的反射镜，普通打磨镜片的反射率不够，所以需要一种多层镜面，可以将很多小的反射集中成一个单一而强大的反射，也就是所谓的布拉格反射器。”

朱昱等业内大咖们在听了罗晟这寥寥几句的描述，个个都感觉要给跪了的节奏，突然的一瞬间意识他真的可能在极紫外光刻技术领域再次创造出不可能出现的奇迹。

“罗总，我有个与技术无关的问题。”这时，与会的美光科技掌门人发话了。

“愿闻其详。”

“既然你都有了成套的极紫外光刻机技术体系了，为什么不自己独立开发呢？没道理啊。”

此话一出，在场的人纷纷把目光投向了罗晟，心中也不禁暗暗点头，确实没道理啊，你罗晟一不缺钱，二不缺人，三不缺市场，这么好心的把蛋糕分给大家吃？

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